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專利侵權行爲的構成條件是什麼

欄目: 專利 / 發佈於: / 人氣:9.16K

專利侵權行爲的構成條件如下:
(一)侵犯的對象應是在我國享有專利權的有效專利。
(二)有違法行爲存在。
(三)行爲人主觀上有過錯。
(四)一般應以生產經營爲目的。
《中華人民共和國專利法實施細則》第八十四條
《中華人民共和國專利法》第十一條
《中華人民共和國專利法》第六十條
《中華人民共和國專利法》第六十三條

專利侵權行爲的構成條件是什麼